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そもそもDRAMとは何か?誰が発明し、なぜ今韓国が強いのか — CPU・GPU・SRAM・SSDとの違いから60年覇権史まで

1個のトランジスタと1個のコンデンサ(1T1C)に電荷を蓄えリフレッシュで記憶を保つDRAM。1966年の米IBMロバート・デナードによる基本原理発明と1970年Intel 1103商用化、1980年代半ばに世界シェア約90%を握った日本勢、そして2026年Q2に通常DRAMの63%・AI向けHBMの83%を制する韓国2社(Samsung・SK hynix)の5大勝因と、CPU・GPU・SRAM・DRAM・SSDの決定的な違いを解剖する。

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執筆・編集責任:日本フィジカルAI新聞 編集部

結論から言えば、DRAM(Dynamic Random Access Memory:動的ランダムアクセスメモリ)とは、コンピューターが計算するために必要なデータを一時的に大量保存する半導体(主記憶装置)である[1,6]。CPUが「システム全体を制御し複雑な順次処理をこなす司令塔」、GPUが「単純な数値計算を何千・何万並列で一斉に行う計算装置」であるのに対し、DRAMは「CPUやGPUが今すぐ計算するための情報を広げておく作業机」の役割を担う。そして半導体史において最も興味深いのは、DRAMの基本原理を発明したのはアメリカ(1966年 IBMロバート・デナード)[1]、1980年代半ばに世界シェア約90%を制したのは日本(NEC・日立・東芝など)[4]、そして現在の覇権を握っているのは韓国(2026年Q2売上シェアで通常DRAMの約63%、AI向けHBMの約83%)[3]という劇的な覇権移動の歴史である。本稿では、1トランジスタ+1コンデンサの物理構造から、CPU・GPU・SRAM・DRAM・SSDの決定的な違い、なぜ韓国2社(Samsung・SK hynix)が勝ったのかという5つの構造要因までを体系的に解き明かす。

1966年 / 1970年IBM発明 / Intel商用化
1966年に米IBMデナードが1T1C原理を発案、1970年に米Intelが初の商用DRAM「1103」を発売
約 90%1980年代半ばの日本シェア
NEC・日立・東芝など日本勢が世界市場を席巻後、1992年Samsung首位・1998年に日韓逆転
63% / 83%韓国2社の世界シェア(2026 Q2)
通常DRAMで63%(Samsung 38%+SK hynix 25%)、AI向けHBMで83%(SK 50%+Samsung 33%)
5階層CPU・GPU・SRAM・DRAM・SSD
「司令塔」「並列演算」「超高速キャッシュ」「作業机(主記憶)」「長期保管倉庫」の完全分業

1. そもそもDRAMとは何か? — 1ビットを記憶する物理構造と「リフレッシュ」#

DRAM(Dynamic Random Access Memory:動的ランダムアクセスメモリ)を理解するには、まずコンピューターやAIシステムの中で各パーツがどのような役割分担をしているかを見るのが最も分かりやすい。例えば、AIに「猫の画像を認識しろ」と命令した場面を考える[6]。

半導体・装置の区分人間の作業に例えると「猫の画像認識」における具体的な仕事
CPU(中央演算処理装置)現場監督・司令塔OSやプログラム全体を制御し、データの前処理や条件分岐、GPUへの計算命令の割り振りを行う
GPU(並列演算装置)数千人の計算部隊大量の数値計算(行列演算)を並列で一斉に行い、画像の特徴量から「猫かどうか」を判定する
DRAM(主記憶メモリ)広大な作業机CPUやGPUが今まさに計算で使う画像データ、AIモデルの重み、中間計算結果を一時的に保持する
SSD(NANDフラッシュ)巨大な書庫・倉庫電源を切っても消えないように、AIモデルファイルや大量の画像データ、OSを長期保存する

1-1. コンデンサとトランジスタ(1T1C)で「0」と「1」を記録する

DRAMの基本構造は驚くほどシンプルである。現代のDRAMにおける1ビットの記憶セル(1T1Cセル)は、わずか2つの微細な電子部品で構成されている[1]。

1T1C DRAM CELL PRINCIPLE — 1個のトランジスタと1個のコンデンサによる記憶原理とリフレッシュ
① 電荷あり = データ「1」ワード線(Word Line:スイッチ制御)ビット線(Bit Line:データ入出力)トランジスタコンデンサ電荷 満タン (+Q)② 電荷なし = データ「0」トランジスタコンデンサ電荷 空 (0)③ 自然放電と「リフレッシュ」・コンデンサの電荷は時間とともに少しずつ漏れる・数ミリ秒〜数十ミリ秒ごとに電荷を読み出して 再補充する「リフレッシュ動作」が必須→ だから Dynamic(動的)と呼ばれるDRAM最大の武器:圧倒的な面積効率6個のトランジスタを使うSRAMに比べ、1T1C構造で1ビットを極小面積に収め、数百億ビットを安価に実装

1ビットの記憶セルを構成する2つの部品は、① コンデンサ(微小な電荷を蓄えるバケツ)と、② トランジスタ(読み書きを制御するスイッチ)である[1]。コンデンサに電荷が蓄えられているかいないかで「1」と「0」を区別する。ただし、極小のコンデンサに蓄えた電荷は少しずつ自然放電して漏れてしまうため、一定間隔(数十ミリ秒周期など)で電荷を補充し直す「リフレッシュ(Refresh)」が必要になる。これがDynamic(動的)と呼ばれる理由であり、電源を切ると記憶は消える(揮発性メモリ)。しかし、たった1個のトランジスタと1個のコンデンサで1ビットを表現できるため、1ビットを極めて小さな面積で作ることができ、数十億〜数百億ビットもの情報を1枚のチップ上に比較的安く高密度に実装できるのがDRAM最大の強みである[1,6]。

2. DRAMを発明したのは誰か? — 米IBMの発明・米Intelの商用化から日韓逆転まで#

DRAMの基本原理を発明したのは、アメリカのIBMの研究者ロバート・デナード(Robert H. Dennard、1932年生まれ〜2024年没)である[1]。1960年代当時のコンピューターでは、磁性体の小さな輪にワイヤーを通した「磁気コアメモリ」が主流であり、大きくて高価だった。デナードは1966年、1個のトランジスタと1個のコンデンサを使ってシリコンチップ上に1ビットを記憶するDRAMの基本原理を発案し、1968年に米国特許を取得した[1]。

ここで歴史上重要なポイントがある。「基本原理を発明した会社(IBM)」と「最初に商用製品として発売した会社(Intel)」は別だということだ。1970年10月、創業間もない米Intelが世界初の商用DRAMチップ「Intel 1103」(1Kビット)を発売し磁気コアメモリを置き換えていったが、このIntel 1103は現代の標準である1トランジスタ型(1T1C)ではなく3トランジスタ型(3T)であった[2]。その後、高密度化に圧倒的に有利なデナードの1トランジスタ型が業界標準となった。

年代・年次DRAM覇権史における象徴的な出来事当時の主役・構造変化
1966年米IBMのロバート・デナードが1トランジスタ型(1T1C)DRAMの基本原理を発案[1]米国(基礎原理の発明)
1968年デナードのDRAM基本特許(U.S. Patent 3,387,286)が成立[1]米国(知財確立)
1970年米Intelが世界初の商用DRAM「Intel 1103」(3トランジスタ型)を発売[2]米国(商用化の幕開け)
1980年代日本のNEC、日立製作所、東芝などがDRAM市場で躍進し、1980年代半ばに世界シェア約90%を掌握[4]日本(高品質・高歩留まりで世界制覇)
1992年1983年に米Micronから64K DRAM技術を導入し巨額投資を続けた韓国Samsungが企業別DRAM世界首位に到達[4]韓国(Samsungの首位浮上)
1998年〜1999年1998年に韓国メーカー全体のシェアが日本勢を逆転。1999年に現代電子がLG半導体を取得し現在のSK hynixへ集約[4,5]韓国(2大メーカー体制の確立)
2013年〜2014年2013年に日本のエルピーダメモリが米Micronに買収[8]。2014年にSK hynixがAMDとTSVを用いた初期HBMを共同開発[5]3強集約とAI向けHBM時代の布石

3. なぜ現在、韓国がDRAMとHBMで圧倒的に強いのか?#

まず、現在の市場シェアを最新の一次データで確認しよう。調査会社Counterpoint Researchが2026年9月に公表した2026年4〜6月期(第2四半期)の世界売上高シェアを見ると、韓国勢の圧倒的な強さが浮かび上がる[3]。

GLOBAL MARKET SHARE (Q2 2026) — Counterpoint Research公表:通常DRAM市場(韓国63%)とAI向けHBM市場(韓国83%)
① 通常のDRAM市場(韓国2社合計:約 63%)Samsung 38%SK 25%Micron 24%10%・Samsung(韓国)38% + SK hynix(韓国)25% = 韓国勢 63%・Micron(米国)24% / CXMT(中国)10%出典:Counterpoint Research(2026年9月公表・2026年4〜6月期売上高基準)② AI向けHBM市場(韓国2社合計:約 83%)SK hynix 50%Samsung 33%Micron 18%・SK hynix(韓国)50% + Samsung(韓国)33% = 韓国勢 83%・Micron(米国)18%(※四捨五入誤差あり。HBMはDRAM市場の一部)※通常DRAMはSamsung首位、AI向けHBMではSK hynixが先行しSamsungが追撃

韓国がDRAM・HBMで勝った5つの構造的理由

なぜ1980年代半ばに世界シェア約90%を握っていた日本勢が後退し、韓国2社が世界の6〜8割を握るに至ったのか。そこには5つの明確な産業構造の理由がある[4,5]。

韓国勝利の5大要因メカニズムと歴史的経緯
① 「規模の経済」が極めて強い産業構造DRAMはJEDEC等で基本仕様が標準化されており、製品ごとの機能差別化が難しいコモディティ財の性格を持つ。そのため競争は「1枚のウェハから何個チップを取れるか」「歩留まりをどこまで上げられるか」「1ビット当たり製造コストをどれだけ下げられるか」に集中し、巨額の設備投資と量産技術が勝敗を決めた。
② Samsungの1980年代からの巨額継続投資Samsungは1983年に米Micronから技術を導入して64K DRAMの開発を開始。技術を吸収しながら不況期にも次世代ラインへの巨額投資を止めず、1992年には世界首位に到達した。韓国政府も研究開発・設備輸入・資金調達等を支援した[4]。
③ 日本企業が投資を抑えた時期の拡大1980年代半ばに世界シェア約90%を誇った日本勢(NEC・日立・東芝等)は、円高、バブル崩壊、日米半導体摩擦、価格暴落、巨額設備投資の負担に直面した。単なる技術力低下ではなく、競争の主戦場が「長寿命・高品質(メインフレーム向け)」から「コスト・投資規模・スピード(PC・デジタル家電向け)」へ転換した局面で、韓国勢が量産投資を加速させた点が決定的だった[4]。
④ 韓国国内の半導体企業の集約(1999年)かつて韓国にはSamsung、現代電子、LG半導体など複数メーカーが存在したが、アジア通貨危機後の1999年に現代電子がLG半導体事業を取得し、現在のSK hynixにつながる大手2社体制へ集約された。これにより研究開発費と製造設備投資の分散を防ぎ、巨額投資を集中できるようになった[5]。
⑤ AI時代のHBMでも2014年から先行蓄積SK hynixは米AMDと協力し、2014年にTSV(シリコン貫通電極)を用いた初期のHBM製品を共同開発した[5]。生成AIブームが到来する約10年前からHBMの積層・接合・放熱・歩留まり技術を蓄積していたことが現在のHBMシェア50%につながっている。また2026年時点ではSamsungもHBM4量産で競争力を高めており、韓国勢の中でSK hynixが先行しSamsungが追い上げる構造となっている。

4. CPU・GPU・DRAM・SRAMは何が違うのか? — 回路思想と階層の完全比較#

CPUもGPUもDRAMも、すべてシリコンウェハ上にトランジスタを形成する半導体だが、回路の設計思想と目的はまったく別物であり、互いに代替することはできない[6]。

特に混同されやすい「CPU(中央演算処理装置)」「GPU(並列演算装置)」「SRAM(キャッシュメモリ)」「DRAM(主記憶メモリ・HBM)」の4者の違いを整理すると以下の通りとなる。

比較項目CPUGPUDRAM(DDR5 / HBM)SRAM(キャッシュ)
主な仕事複雑な制御・順次計算(司令塔)大量の計算を並列実行(計算部隊)大量データを一時記憶(作業机)演算器直近の超高速一時保持
基本回路構造少数の超高性能コア+複雑な分岐予測・制御回路+キャッシュ数千〜数万個の単純な演算器(ALU / Tensor Core)の配列1トランジスタ+1コンデンサ(1T1C)の巨大な記憶セル配列(要リフレッシュ)6個のトランジスタ(6T)によるフリップフロップ回路(リフレッシュ不要)
最重要の性能指標単一スレッド性能、応答遅延、複雑な条件分岐処理並列演算能力(FLOPS / TOPS)記憶容量(GB)、データ転送速度(帯域幅 GB/s・TB/s)超低遅延(ナノ秒以下)・超広帯域(ただし小容量)
主な企業Intel、AMD、Apple、Arm系各社NVIDIA、AMDSamsung、SK hynix、Micron、CXMTCPU・GPUダイ内部に混載(TSMC等で製造)
AI処理での役割OS・通信・データ前処理・GPUへのジョブ発行ニューラルネットの膨大な行列演算を実行数千億パラメータの重みやKVキャッシュを保持今まさに計算中のタイル・重み断片を演算器横で保持
互いに代替可能かできないできないできないできない(面積・コストが桁違い)

4-1. なぜCPUだけではAI計算が足りず、なぜGPUの横にDRAM(HBM)が必要なのか?

CPUとGPUの違いは、「少数の天才数学者(CPUコア)が複雑な論理パズルや書類整理を順番に片付ける」か、「1万人の計算係(GPUコア)が単純な掛け算・足し算を一斉に同時処理する」かの違いである。OSを動かしたり、複雑な条件分岐(「もしAならB、そうでなければC」)を処理するにはCPUが不可欠だが、AIのディープラーニングは「巨大な行列の掛け算と足し算」の塊であるため、数千〜数万の演算器を並べたGPUが圧倒的な威力を発揮する。

そして実際のAIアクセラレーター(NVIDIAのAI GPUなど)は、「GPUチップ単体」ではなく「演算回路+内部の超高速SRAMキャッシュ+同じパッケージ上に積層接続された大容量HBM(DRAM)」を階層的に組み合わせたシステムとして作られている[6]。CPUやGPUの内部にはDRAMよりさらに高速なSRAMがキャッシュメモリ(数MB〜百数十MB規模)として載っているが、SRAMは1ビットにトランジスタを6個も使うため面積が大きく高価で、140GBものAIモデルは到底入り切らない。だからこそ、1ビットを極小面積(1T1C)で作れるDRAMを3次元積層したHBMをGPUのすぐ隣に置き、そこにAIモデル全体を格納して超高速でGPU内部のSRAM・演算器へ流し込む構造になっているのである。

5. DRAMの4大ファミリーと、なぜ今「普通のDRAM」まで不足するのか?#

一口にDRAMと言っても、用途と要求性能に応じて主に4つの種類(規格)に分かれている。これらはすべて1T1Cセルを基本とするDRAMの仲間である[6]。

DRAMの種類主な搭載機器・用途設計上の特徴
DDR5一般的なPC、汎用サーバー、ロボット制御PC大容量化・モジュール交換が容易で、容量あたりのコストが比較的低い
LPDDR5Xスマートフォン、薄型ノートPC、ロボット搭載エッジ(Jetson等)バッテリー駆動や小型機器向けに省電力性能と実装面積を最適化
GDDR7ゲーミングGPU、ワークステーションGPU平面実装のまま動作周波数を高め、グラフィックス向けに高速データ転送を実現
HBM3E・HBM4AIデータセンター向けGPU、スーパーコンピューター(HPC)DRAMダイを8〜16層に垂直積層しTSVで接続。超広帯域だが製造資源消費とコストが極めて大きい

5-1. なぜAI向けHBMが売れると、PCやスマホの通常DRAMまで不足するのか?

AI向けのHBMだけが売れているなら、私たちが使うPC用のDDR5やスマホ用のLPDDR5Xには影響しないように思えるかもしれない。しかし実際には、両方とも同じDRAMメーカー(Samsung、SK hynix、Micron)の限られた工場・製造装置・シリコンウェハ・技術人員を奪い合う関係にある[7]。

AIデータセンター向けの需要が爆発すると、メモリメーカーは長期契約や収益性を考慮して前工程ウェハの生産能力をHBMやAIサーバー向け大容量DDR5へ優先配分する。しかもHBMは通常のDRAMより1ビットあたりのウェハ消費量が大きいため、一般的なPC・スマホ向けDRAMの増産が追いつかず、供給制約と価格上昇が市場全体へ波及する。実際、TrendForceの2026年9月の報告でも、AIサーバー向けの需要拡大と一般DRAMの供給制約がメモリ価格の上昇につながっていると明確に指摘されている[7]。

6. 最も重要な見方:半導体はすべて同じ産業ではない — 国際分業と覇権の本質#

「日本はDRAMで負けたから半導体がダメになった」「韓国や台湾がすべてを握っている」といった単純な議論は、現代の半導体産業の実態を見誤らせる。現在の世界半導体産業は、以下のようにまったく異なる競争ルールを持つ複数の領域の国際分業によって成り立っている。

半導体産業の領域現在強い企業・国・地域競争の中心(勝敗を分けるコア能力)
GPU・AI半導体設計NVIDIA、AMD(米国)並列アーキテクチャ設計、CUDA等のソフトウェア生態系、システム統合
CPU・SoC設計Intel、AMD、Apple(米国)、Arm(英国)命令セット、高性能コア設計、電力効率、エコシステム
先端ロジック半導体製造(ファウンドリ)TSMC(台湾)2nm/3nm等の極限微細加工、高歩留まり受託製造、CoWoS等の先端パッケージング
DRAM・HBMメモリSamsung、SK hynix(韓国)、Micron(米国)1T1C高密度記憶セル、巨額量産投資、TSV・8〜16層積層・接合技術
半導体製造装置・素材・材料日本、欧州(オランダ等)、米国シリコンウェハ、フォトレジスト、露光・エッチング・洗浄・ダイシング等のすり合わせ技術

日本は2013年に最後の大手専業DRAMメーカーだったエルピーダメモリが米Micronに買収され[8]、DRAM量産の主導権こそ失ったが、すべての半導体技術を失ったわけではない。DRAMやHBM、先端GPUを作るために不可欠なシリコンウェハ、フォトレジスト、パッケージ基板、製造装置・検査装置などの装置・材料分野では、現在も日本企業が世界有数のシェアを握っている。

出典

  1. 1.IBM / National Inventors Hall of Fame & IEEE Spectrum: Robert H. Dennard (1932–2024) — Invention of the One-Transistor, One-Capacitor (1T1C) DRAM Cell in 1966 and U.S. Patent 3,387,286 in 1968 — National Inventors Hall of Fame / IBM / IEEE Spectrum、1968一次情報
  2. 2.Intel Corporate Timeline: Launch of the Intel 1103 (October 1970), the World's First Commercially Available DRAM Chip (3-Transistor Cell Architecture) — Intel Corporation、1970-10一次情報
  3. 3.Counterpoint Research Global Memory Market Tracker (Published Sep 2026, Q2 2026 Revenue Share): DRAM (Samsung 38%, SK hynix 25%, Micron 24%, CXMT 10% -> Korea 63%) and HBM (SK hynix 50%, Samsung 33%, Micron 18% -> Korea 83%) — Counterpoint Research、2026-09一次情報
  4. 4.RIETI(経済産業研究所)・日本政策投資銀行(DBJ)半導体産業史分析:1980年代半ばの日本勢DRAM世界シェア約90%から1990年代の韓国逆転(1992年Samsung首位・1998年国別逆転)、投資規模・コスト競争への構造転換 — RIETI / 日本政策投資銀行、2024一次情報
  5. 5.SK hynix Newsroom: 1999 Merger of Hyundai Electronics and LG Semiconductor, and 2014 World-First Commercialization of TSV-Based HBM in Collaboration with AMD — SK hynix Newsroom、2025一次情報
  6. 6.Samsung Semiconductor Global Technical Guide: DRAM Portfolio Across DDR5, LPDDR5X, GDDR7, and HBM3E/HBM4 vs Logic/SRAM Hierarchy — Samsung Semiconductor Global、2026一次情報
  7. 7.TrendForce Memory Market Report (Sep 2026): AI Server HBM/DDR5 Demand Surge and Wafer Allocation Competition Driving Conventional PC/Smartphone DRAM Supply Constraints — TrendForce、2026-09一次情報
  8. 8.U.S. SEC Filing / Micron Technology Inc. (2013): Completion of Acquisition of Elpida Memory, Inc., Japan's Last Major Dedicated DRAM Manufacturer — U.S. Securities and Exchange Commission (SEC)、2013-07一次情報
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